四氟化硅
| 四氟化硅 | |
|---|---|
| |
| |
| IUPAC名 Silicon tetrafluoride | |
| 别名 | 氟化硅、四氟化矽 |
| 识别 | |
| CAS号 | 7783-61-1 
|
| PubChem | 24556 |
| SMILES |
|
| UN编号 | 1859 |
| RTECS | VW2327000 |
| 性质 | |
| 化学式 | SiF4 |
| 摩尔质量 | 104.08 g·mol⁻¹ |
| 外观 | 无色气体， 在潮湿空气中发烟 |
| 密度 | 1.66 g/cm3 （固，-95 °C） |
| 熔点 | -90 °C |
| 沸点 | 于-86 °C升华（1atm） |
| 溶解性（水） | 发生水解 |
| 结构 | |
| 分子构型 | 四面体 |
| 偶极矩 | 0 D |
| 危险性 | |
| 警示术语 | R：R14, R26/27/28, R31, R34 |
| 安全术语 | S：S23, S26, S36/37/39, S45 |
| 欧盟编号 | 未列出 |
| 主要危害 | 有毒，具腐蚀性 |
| NFPA 704 |
 0
3
2
|
| 相关物质 | |
| 相关化学品 | 四氯化硅、硅烷、 氟硅酸 |
| 若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。 | |
四氟化硅（化学式：SiF4）是最常见的硅氟化物。无色气体，遇水发生水解生成氟硅酸，在潮湿空气中发烟。沸点仅高于熔点4 °C。首先由John Davy (chemist)在1812年合成。[1]
应用于微电子行业和有机合成中。[2] 火山爆发时的烟雾中也含有大量的四氟化硅。[3]
制备
[编辑]大量的四氟化硅是工业上生产磷肥的副产物。氟磷灰石经硫酸处理后，会生成大量的氢氟酸；氢氟酸再与含硅矿石发生反应，生成挥发性的四氟化硅气体。
实验室制法是用氟硅酸与氯化钡反应沉淀出氟硅酸钡，[4] 再加热氟硅酸钡至300 °C以上，使之分解生成四氟化硅和氟化钡。同族的四氟化锗也可通过这个方法制备，但需要更高的分解温度（700 °C）。[5]
除此之外，四氟化硅还有很多其他制取方法，包括氟硅酸钠与硫酸反应，硅与氟单质化合，二氧化硅与浓氢氟酸或活泼氟化物反应（即毛玻璃的制作和刻画原理），以及赤热的硅与无水氟化氢反应等。将粗品通过灼热的玻璃毛，再在低温用冷肼收集，便可除去其中的氟化氢、水等杂质。
应用
[编辑]用于氟硅酸及氟化铅的制取，也用作水泥和水磨石（人造大理石）的硬化剂，有机硅化合物的合成材料。[6]
参见
[编辑]参考资料
[编辑]- ^ John Davy. An Account of Some Experiments on Different Combinations of Fluoric Acid. Philosophical Transactions of the Royal Society of London. 1812, 102: 352–369. doi:10.1098/rstl.1812.0020.
- ^ Shimizu, M. "Silicon(IV) Fluoride" Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2001 John Wiley & Sons. DOI: 10.1002/047084289X.rs011
- ^ T. Mori, M. Sato, Y. Shimoike, K. Notsu. High SiF4/HF ratio detected in Satsuma-Iwojima volcano's plume by remote FT-IR observation (PDF). Earth Planets Space. 2002, 54: 249–256 [2008-12-18]. （原始内容存档 (PDF)于2008-03-09）.
- ^ Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. “Silicon Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 145-6, 1953.
- ^ Hoffman, C. J.; Gutowsky, H. S. "Germanium Tetrafluoride” Inorganic Syntheses McGraw-Hill: New York, Volume 4, pages 147-8, 1953.
- ^ CAS号查询化工产品分类化学试剂硅烷试剂四氟化硅 （页面存档备份，存于互联网档案馆）化源网，2020年
